HEMADE MC12晶圓加熱盤擁有寬泛的溫度測試范圍，緊湊的卡盤設(shè)計(jì)和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)。我們提供多種定制服務(wù)，根據(jù)客戶的實(shí)驗(yàn)需求對諸如平面度，溫度范圍，升降溫速率等各種參數(shù)進(jìn)行調(diào)整。

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-09-08

廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商

訪問量：662

產(chǎn)品咨詢 15800810285

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

冷熱臺

拉伸系統(tǒng) 溫控臺凍干系統(tǒng)

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HEMADE MC12晶圓加熱盤擁有寬泛的溫度測試范圍，緊湊的卡盤設(shè)計(jì)和穩(wěn)定的溫度控制系統(tǒng)。我們提供多種定制服務(wù)，根據(jù)客戶的實(shí)驗(yàn)需求對諸如平面度，溫度范圍，升降溫速率等各種參數(shù)進(jìn)行調(diào)整。

HEMADE MC12晶圓加熱盤我們也可以按照客戶的需求定制不同尺寸的溫控臺面和樣品夾具。

產(chǎn)品參數(shù)：

1.溫度范圍： -50℃~300℃（可定制）

2.加熱區(qū)： 12寸（4寸，6寸，8寸）

3.最大升溫速率： 10℃/min

4.溫控精度： 0.1℃

5.溫度均勻性： 30~200℃ ＜ ±2℃，200~300℃ ＜ ±1%（φ300mm 均勻度面積）

型號		MC12
溫控模塊	溫控范圍	-50°C~300°C*
	加熱區(qū)	12寸（4寸，6寸，8寸）*
	最大升溫速率	0-10℃/min*
	溫控精度：	0.1°C
	溫度均勻性：	30~200℃ ＜ ±2℃，200~300℃ ＜ ±1%（φ300mm 均勻度面積）
基本配置	晶圓加熱盤x1、溫控系統(tǒng)x1、循環(huán)水系統(tǒng)x1、溫控軟件
選配	其他定制
備注	以上為默認(rèn)參數(shù) * 為可定制項(xiàng)
其他可選型號	按需求進(jìn)行配置